此前,M国先是不允许高通等美企业与华为合作,紧接着又对使用M国芯片技术的企业加以限制,禁止任何使用本国技术的企业自有出货,受此政策影响,联发科、台积电等众多企业纷纷与华为分道扬镳。
要知道近些年随着我国 科技 的不断发展,手机等智能产品生产制造日益高涨,对芯片的使用与日俱增,M国这一做法,意在致众多企业于死地,迫于无奈,国内也开始了对芯片技术的重视,同时国家层面也开始出台了政策给与一定的支持!比如印发指导性文件、成立集成电路学院、提供税收优惠政策等。
不过,芯片的制造有一定的技术要求,也要具备一定的高端设备,比如光刻机。在M国限制风波过后,国产企业就纷纷投入光刻机的研发,好消息一个接一个。
据媒体报道,2021年上海微电子将会下线一批新的光刻机,据了解,其曝光精度已经从90nm大幅缩减到28nm,完全可以满足28nm制程的芯片生产。此外再加以多次曝光之后,该款光刻机还将应用于7nm制程的芯片生产。此外张召忠还曾表示过国内目前可能已经有了全新一代的光刻机。
这样的发展势头不容小视,似乎一切都应了张召忠的那句话,三年之后中国就不用外国进口芯片了,中国的芯片将满大街都是。
除了上海微电子之外,华为、清华大学、中科院方面也都有关于光刻机的消息传出。
据有关人士透露,华为已经开始广纳半导体技术人才,与国内该领域先进企业合作,加速对光刻机技术的研究,拟建立一条纯国产技术的生产线。
国内知名高校清华大学也有所进展,清华大学研究团队的研究论文表明,清华已经在光源研究方面有了巨大的突破。论文中还着重介绍了“稳态微聚束”原理的实验,该项技术是对新型粒子加速光源的首个实验,而光源技术则是光刻机生产的主要技术之一。
其次中科院也对光刻机的生产有所研究,据悉下一步中科院将会与国内供应链企业展开全面合作,力争早日实现技术新突破。
随着国产光刻技术的不断发展、突破技术瓶颈,生产先进的光刻机已经不再是镜花水月,这一天可能很快就到来了。
国产光刻接的好消息不断,尤其是随着纯国产的芯片生产线的建立,那么将来的ASML将彻底面临失去中国市场的危机。
迫于如此尴尬处境,ASML开始三番五次地表态,表示要向中国出售光刻机了。
比如就在M国2020修改芯片规则之后,ASML就曾表示,要稳住中国的芯片市场,倾其所有向中企给予技术支持。而且也急切地说明,向国内市场出售DUV光刻机可以不经过许可。
没过多久,ASML再次表示,如果自由贸易始终被限制,那么15年之后包含自己在内的其他芯片企业将彻底退出中国市场,或将面临被淘汰的风险。
从ASML接二连三的陈词不难看出,面对限制政策的影响,ASML已经坐不住了,这一切已经影响到了自己的企业生存问题。
种种迹象都表明,面对国产光刻机的消息传出,ASML已经如坐针毡,开始积极向国内市场靠拢了,要不然就真的与中国的巨大市场失之交臂了,毕竟企业是要生存,要吃饭的!
对于ASML,你们怎么看,有什么想说的吗?
国产光刻机中端水平。
中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”。国产DUV光刻机产品很快就能成批推出、规模采用,据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产,再过一两年一定能用于国产芯片的生产。
我国光刻机现状:
我国光刻机最高技术仍旧是上海微电子研究所的90nm工艺,它的SMEE200系列光刻机、300系列光刻机、500系列光刻机、600系列光刻机只能够达到90nm工艺水平。而像江苏无锡影幻半导体公司、合肥芯硕半导体公司都只能够拥有200nm工艺的光刻机量产能力。
中国的光刻机现在达到22纳米。在上海微电子技术突破之前,我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。这一次中国从90nm突破到22nm,意味着光刻机制造的一些关键核心领域实现了国产化。掌握核心技术的重要性不言而喻。突破关键区域后,高阶光刻机的RD速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁,成功研发22nm光刻机。中国芯逐渐崛起。随着信息社会的快速发展,手机、电脑、电视等电子设备变得越来越“迷你”。从以前的“手机”到现在只有几个硬币厚的时尚手机,从老式的矮胖电视到现在的轻薄液晶电视,无一不离开集成电路的发展,也就是我们通常所说的“芯片”。自从1958年世界上第一块集成电路问世以来,体积越来越小,性能却越来越强。光刻机是半导体芯片制造行业的核心设备。以光刻机为代表的高端半导体设备支撑着集成电路产业的发展,芯片越来越小,集成电路越来越多,可以把终端做得小而精致。2002年,光刻机被列入国家863重大科技攻关计划,由科技部和上海市共同推动成立上海微电子设备有限公司(以下简称“SMEE”)。2008年,国家启动了“02”重大科技项目,持续攻关。经过十余年的研发,我国基本掌握了高端光刻机的集成技术,部分掌握了核心部件的制造技术,成为集光学、机械、电子等多学科前沿技术于一体的“智能制造行业的珠穆朗玛峰”。
相信很多人都知道,华为被芯片禁令限制了进一步的发展,但这个限制也仅仅是在制造端,而不是设计端。此前华为任正非就曾表示,所谓封锁也只是封锁了制造芯片的光刻机等设备,而并不能阻碍中国自主研发设计芯片的发展。这意味着,华为是有能力设计出全球最顶尖的芯片,而仅仅是受制于制造端。
杀不死我的必将使我更加强大,就在芯片禁令生效之后,华为内部甚至中国企业,纷纷都开始重新认识自主研发 科技 的重要性。将重要的 科技 掌握在自我手中,不用再受制于人,是每一个出海的中国企业必须面临的问题。与此同时,也开始投入重金在半导体 科技 领域。
这次卡脖子的光刻机技术,是重中之重。不过国外的各种公司却依然投来了鄙视的目光,认为光靠中国自主技术去研发,根本不可能设计出自研芯片。随着国外势力的这种冷嘲热讽,中国各高等院校开始加入了这一场反击战。
让技术的回归技术,光刻机在内部结构中,最主要的三个部件就是光源、光学镜头,以及双工件台系统了。
最近一段时间,年初开始进行光刻机研究的清华科研队伍,终于取得了新的突破。唐传祥带领的科研团队,通过新的验证方式,获得了一种新型加速粒子,命名为稳态微聚束。而它最重要的波长对应的波段,刚好是EUV光刻机所需要的核心光源技术。
这一消息被证实后,许多国外的光刻机设备工程师都不由地赞叹,该来的还是来了。这一步骤的完成,将预示着中国自造的光刻机研发成果,已经进入了新的里程碑。
这个消息也让很多关心中国光刻机进展的朋友们,大为惊讶。也发出了另一种赞叹的声音,有可能中国将在未来几年之内获得更快速的进展,包括了目前难以攻克的光刻机设备。不过来自国内的声音,清华大学科研的成功,预示着光刻机高精尖技术的加速,可能真的用不了几年就能收获更大的惊喜。
果不其然,据最新媒体的报道显示,清华科研团队参与的项目中,华卓精科研发的成果方面,本身产品的应用精度已经达到了世界先进水平,1.8nm的参数足以媲美当今先进的光刻机标准。
而我们知道,双工件是ASML这家机构最看重的技术。ASML不用多解释,作为世界最先进的 光刻机设备制造商,实力非常雄厚。这次清华团队的研究成果能够匹配ASML的1.8nm水平,就已经说明了我国的实力,毕竟连日本的尼康等公司,都没有能够做到1.8nm的水平。
这个结果足以打脸国外之前那些媒体,另外除了我国的高等院校参与之外。目前,中科院的高能辐射光源设备,也已经能够用0.1nm镀膜的参数,全力投入使用。
至此目前EUV光刻机所需的三大件均已完成里程碑的突破,这标志着量变终于引起了质变。国内的中科院教授同样发出这样的感叹,有这样的进度和人才储备,未来3年之内完成光刻机的初步模型,指日可待。
而国外ASML一直以来唱衰中国自研科学实力的做法,其实也很容易理解。一来是各国所处的角度不同,二来是很担心中国来冲击到它的世界光刻机的地位。
打铁还需自身硬,中国自研 科技 实力一步一步增强,也让竞争对手们胆寒。 科技 的博弈是未来的主旋律,不断增强人才储备和技术科研成果的更新,才能够不落后。核心技术就要掌握在自己手中,中国芯势必会走出一条自己的康庄大道。
说到 中科院 ,我国大部分民众的第一反应是“emmmm,这是 我国科研机构的国家队 ”,或者“emmmm,很厉害, 是我国最高科研机构 ”。实际上大部分人对中科院的印象都是比较片面的,中科院其实是从广义上来讲 并不是一个单独的机构 ,也不仅仅只是一个科研国家队这么简单,中科院在很多领域都有下设的 分支机构 ,比如 中科院微电子研究所、中科院化学研究所、中科院力学研究所等等机构 ,院机关有 十三个 ,分院有 十二个 ,研究单位有 一百一十四个 等等,总之是一个组织架构非常庞大的机构。
当然,群众不太了解也很正常,因为 科学研究本身就不是一个容易被大众所熟悉的领域 ,也不具备泛 娱乐 性,即便是身在科研领域也未必能够数的清楚这些林林总总的机构, 所以中科院不被大众所熟知是情理之中的事,并非群众孤陋寡闻。
因此对于中科院我国大部分民众只知道“很厉害”,但对于中科院的科研能力却所知甚少,甚至现在 中科院下场开始主力研究我国被卡脖子的光刻机技术 时,还有一些网友提出质疑说中科院能行吗?
能不能行,我们用事实说话!在这里我们只举几个例子, 我国的第一台电子计算机到现如今独步天下的超级计算机是中科院主导研究出来的 ,世界第一次人工合成牛胰岛素也是在中科院的主导下取得的辉煌成绩,高铁技术能在我国复杂的地形上建设至今中科院也是功不可没,除此之外类似的成绩还有很多,那么我们还用去怀疑中科院的能力吗?
那是不是 我国现在各种需要攻克的技术难关都需要中科院去做呢? 也并不是,现任中科院院长 *** 已经明确地表示,中科院不可能包揽天下所有的技术开发,而是应该把主要精力聚焦在一些核心技术上, 把握了核心 科技 才能把握未来 。因此中科院之于我国, 相当于部队里精锐中的精锐 ,或许在一些常规战役中我们见不到他们的身影,但是在关键时刻他们绝对可以带领大家杀出一条血路。
那么关于光刻机的研究尚需时日,我们暂时还看不到捷报,不过中科院最近取得的一项新的研究进展也格外令人兴奋, 甚至意非凡——人工感受神经系统。 这项技术的实现方案是由中科院微电子所提出来的, 在某种意义上 , 这个新进展带来的价值,要比光刻机深远得多。
简单地说,人工感受神经系统,是应用在机器人身上的一种感知系统,能够让机器人或者人工智能设备具备更加“聪明”,而不是像现在 某些所谓德国高 科技 机器人那样“智Z”。 人工感受神经系统的另一个称呼叫做习惯化感受神经系统,其初级的应用就是能够让智能机器人精准的识别障碍物从而做出躲避或者绕行的动作。
那么有人会说,现在市面上已经有很多机器人都已经实现了躲避障碍物的功能这有什么好稀奇的?那么我们也说了, 躲避障碍物只是最初级的应用, 而习惯化感受神经系统最大的优势就是能够配合其他类别的传感器, 让机器人拥有更多的“类人”能力,比如味觉、嗅觉等等。
这样技术为什么十分具有意义呢?我 们举个例子,目前全球最出名的智能机器人应该就是“阿尔法狗” ,但是阿尔法狗也从某种程度上来说,还仅仅停留在深度学习的层面上,尚未具备真正的人工智能机器人的要求。
而为什么我们现在还在不出科幻电影中那些行动机敏、反应迅速的机器人,其中最重要的一个原因就是目前的技术还达不到让 智能机器人具备强感知力,尤其是对平衡的把握。 有些对 科技 略有了解的网友认为,陀螺仪就可以保证机器人的平衡,这种想法不能说错,但是又很强的局限性—— 应对履带式机器人尚且可以,但是如果是类人的用双腿、或者仿生的四条腿机器人来说,就没那么简单了。
毕竟机器人终究是硅基形态,并没有人体以及其他碳基类生物复杂的肌理结构,人类和其他生物之所以能够保持平衡,是因为生物肌理形态等原因导致我们连毛孔都具备超强的感知力,你能感觉到自然绝微风的存在,那都是毛孔的攻来,但是对于机器人来说,想要实现超强感知力可就没那么容易了。
但习惯化感受神经系统则有可能让这些复杂的感知力能够被人工智能所掌握, 进而产出真正的人工智能机器人 。不过这也仅仅只是猜测,想要实现那一步路还很长,之所以说中科院微电子所得这一研究意义十分重大,是 因为现阶段习惯化感受神经系统能够应用在机器人身上的技术,可以有效促进我国救援、维修、航空航天等诸多领域的效率提升 ,而这种广泛的应用,可不是一台光刻机的价值能够比的上的。
并且,人工智能是通往未来世界的钥匙,甚至下一次工业革命就是看人工智能的发展呢对于进一步解放生产力的促进,因此中科院此次的新进展从某些角度来看, 甚至可以说是划时代的进步。
因为我国在人工智能方面,已经处在世界顶级技术的第一梯队里,仅 仅科大讯飞的语言技术就让全世界其他公司望尘莫及,而中科院此次的新进展讲极大促进我国人工智能更上一层楼!
1.现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术?
官网显示,目前最先进的光刻机是600系列,光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm。然而,与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比,它可以通过高达5纳米的工艺制造。而且3nm工艺 *** 的芯片即将上市。不过根据相关信息,预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付。虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机差距还很大,虽然起步晚,但是中国人的不断努力还是会弯道超车的。
第二,国内公司能否自主采购EUV光刻机来解决这种情况?
答案是否定的,要知道华为缺芯是美国的阻碍,国内公司更不可能轻易买到高端光刻机自己制造芯。虽然ASML也是通过采购世界各地的优秀零件来补上最终的光刻机,但是没有任何零件可以避开美国的核心技术,所以美国不会为了控制中国的发展而轻易让中国购买光刻机。
做一个优秀的光刻机,要做很多艰苦的工作,不仅要达到美国光源和德国镜头的高水平,还要有很多精密的仪器。光刻机任重道远!这些精密仪器的背后,也需要更多的人才、研究技术、时间投入和技术积累,也需要大量的资金。我相信中国会克服这个困难,不再受其他国家的限制。
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